Kritische Plasmaparameter wie Ionendichte und Elektronendichte, Elektronentemperaturver- teilung und Homogenität des Plasmas können automatisch gemessen, ausgegeben und zur Steuerung des Plasmaprozesses eingesetzt werden.
Die Sonde wird standardmäßig mit einer Gating Funktion für gepulste Plasmen für Industrie - und akademische Anwendungen ausgeliefert.
Die Sonde ist geeignet für DC und RF – Plasmen (auch für beschichtendes Plasma CVD, PECVD, Magnetron – Plasma, induktive Plasmen, Kapazitive Plasmen…).



